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3D 白光干涉成像技術(shù)的創(chuàng)新及應(yīng)用

2023-03-18 17:27   來(lái)源: 互聯(lián)網(wǎng)    閱讀次數(shù):4496

      3D飛點(diǎn)分光干涉儀可對(duì)精密零部件的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸實(shí)現(xiàn)微納級(jí)測(cè)量,為半導(dǎo)體等高精密制造業(yè)賦能。

      近年來(lái),3D檢測(cè)技術(shù)發(fā)展迅速,廣泛應(yīng)用于工業(yè)、國(guó)防、醫(yī)療、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域。根據(jù)其是否應(yīng)用人造光源作為照明系統(tǒng),可分為主動(dòng)式3D成像技術(shù)與被動(dòng)式3D成像技術(shù)。無(wú)論是哪種方法,為了獲得目標(biāo)的高精度3D輪廓信息,都希望檢測(cè)儀器具備高精度、高幀率、算法兼容性強(qiáng)、環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)、穩(wěn)定性強(qiáng)、操作簡(jiǎn)便、性價(jià)比高等特點(diǎn),這在實(shí)際應(yīng)用中,尤其在微納米結(jié)構(gòu)檢測(cè)中有著重要意義。

      微納米技術(shù),是指對(duì)微納級(jí)材料的測(cè)量、加工制造、設(shè)計(jì)、控制等相關(guān)研究技術(shù),它與高精尖裝備制造領(lǐng)域的發(fā)展息息相關(guān)。微納結(jié)構(gòu)測(cè)量最為基礎(chǔ)和重要的是表面形貌的3D測(cè)量,它包括了輪廓的測(cè)量以及表面粗糙度的測(cè)量,目前常用的微結(jié)構(gòu)表面形貌測(cè)量方法分為接觸式和非接觸式。

      接觸式測(cè)量是目前工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)應(yīng)用最為廣泛的測(cè)量方法。這種方法在測(cè)量時(shí)有一個(gè)微小的觸針,在被測(cè)樣品表面上做橫向移動(dòng);在這過(guò)程中觸針會(huì)隨著樣品表面的輪廓形狀垂直起伏,然后通過(guò)傳感器將這微小的位移信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào);對(duì)這些信號(hào)進(jìn)行采集和運(yùn)算處理后,就可以測(cè)得表面輪廓或形貌特征。測(cè)量中可以使用的傳感器有很多,如光柵式、壓電式、干涉式以及普遍應(yīng)用的電感式。這種方法測(cè)量量程大,結(jié)果穩(wěn)定可靠,并且儀器操作簡(jiǎn)單,對(duì)測(cè)量環(huán)境要求低;缺點(diǎn)是觸針在測(cè)量時(shí)有可能會(huì)對(duì)被測(cè)表面造成損傷,且測(cè)量速度慢。

      非接觸式測(cè)量技術(shù)大多基于光學(xué)方法,例如干涉顯微法、自動(dòng)聚焦法、激光干涉法等。光學(xué)測(cè)量方法具有非接觸、操作簡(jiǎn)單、速度快等優(yōu)點(diǎn)。然而在利用光學(xué)方法進(jìn)行測(cè)量時(shí),被測(cè)表面的斜率、光學(xué)參數(shù)等發(fā)生變化會(huì)引起測(cè)量誤差。例如,若被測(cè)樣品表面存在溝槽或其他微細(xì)結(jié)構(gòu),它們引起的散射、衍射等現(xiàn)象會(huì)對(duì)測(cè)量信號(hào)造成干擾。另外,若樣品表面存在灰塵、細(xì)小纖維等,光學(xué)測(cè)量方法的結(jié)果也會(huì)有一定失真;而觸針式方法由于測(cè)量時(shí)與樣品表面接觸,會(huì)劃去部分表面污染物使測(cè)量結(jié)果不受影響。因此,根據(jù)不同測(cè)量要求,每種方法都有其適用性,常用的微納結(jié)構(gòu)三維測(cè)量方法如圖1所示。

圖1:微納結(jié)構(gòu)三維測(cè)量方法。


      接觸式檢測(cè)技術(shù)

      (1)掃描電子顯微術(shù)

      利用物質(zhì)與電子的相互作用,當(dāng)電子束轟擊表面時(shí),會(huì)產(chǎn)生多種形式的電子和光電現(xiàn)象,掃描電子顯微鏡(SEM)利用其中的二次電子和背散射電子與表面具有的關(guān)系進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析。SEM具有大視場(chǎng)、大倍率、大景深等優(yōu)點(diǎn),但其測(cè)量樣品制備復(fù)雜,種類有限,常用于微結(jié)構(gòu)缺陷檢測(cè)等定性分析。

      (2)掃描探針顯微術(shù)

      被測(cè)樣品表面的相關(guān)信息利用探針與樣品的相互作用特性獲得,掃描探針顯微鏡(SPM)及其衍生而來(lái)其他測(cè)量方法,具有較高的測(cè)量分辨力,但其測(cè)量過(guò)程需要對(duì)測(cè)量表面逐點(diǎn)掃描,且只有微米級(jí)別成像范圍,測(cè)試效率較低。

      (3)機(jī)械探針輪廓術(shù)

      探針始終與被測(cè)表面接觸,被測(cè)表面結(jié)構(gòu)的變化會(huì)使探針產(chǎn)生垂直位移,通過(guò)位移的感知即能獲得被測(cè)表面特性。該方法在工業(yè)特別是制造業(yè)領(lǐng)域廣泛使用,也是國(guó)際社會(huì)公認(rèn)的表面粗糙度測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方法。但是其作為接觸式測(cè)量方法,容易對(duì)被測(cè)表面造成劃傷,逐點(diǎn)測(cè)量的辦法效率較低,也難以測(cè)量復(fù)雜器件。


      非接觸式檢測(cè)技術(shù)

      (1)激光干涉術(shù)

      通過(guò)干涉條紋變化與被測(cè)物位置變化的對(duì)應(yīng)關(guān)系,獲得位移信息,從而達(dá)到幾何量測(cè)的目的。

      (2)自動(dòng)聚焦法

      基于幾何光學(xué)的物象共軛關(guān)系,當(dāng)照明光斑匯聚在被測(cè)面時(shí),進(jìn)一步調(diào)整檢測(cè)頭與表面的距離,直至光斑像尺寸最小而得到該被測(cè)位置的相對(duì)高度。該方法簡(jiǎn)單易操作,但水平分辨力受光斑大小的限制較大,且垂直高分辨力對(duì)成像分析和調(diào)節(jié)能力要求高。

      (3)激光共焦掃描顯微術(shù)

      首先利用精密共焦空間濾波結(jié)構(gòu),通過(guò)物象共軛關(guān)系濾除焦點(diǎn)外的反射光,極大地提高成像的可見度。通過(guò)聚焦光對(duì)樣品垂直掃描,樣品在垂直方向被分層成像,光學(xué)切片圖像經(jīng)三維重構(gòu),可得到樣品的三維結(jié)構(gòu)。該方法一次測(cè)量過(guò)程就能實(shí)現(xiàn)該視場(chǎng)三維形貌的測(cè)量,兼具高效和高精度的優(yōu)點(diǎn),但其分辨率易受掃描步長(zhǎng)和物鏡數(shù)值孔徑的限制。

      (4)光學(xué)顯微干涉術(shù)

      傳統(tǒng)的干涉測(cè)量方法,主要是通過(guò)觀測(cè)干涉條紋的位置、間距等的變化來(lái)實(shí)現(xiàn)精確測(cè)量。典型方法是單色光相移干涉術(shù)和白光掃描干涉術(shù)。

      單色光相移干涉術(shù)的測(cè)量思路為:參考臂和測(cè)量臂的反射光發(fā)生干涉后,利用相移法引入相位變化,根據(jù)該相位變化所引起的干涉光強(qiáng)變化,求解出每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)的相位,其結(jié)果不連續(xù),位于(-p,p]之間,因此需要對(duì)該結(jié)果進(jìn)行解包裹運(yùn)算,然后根據(jù)高度與相位的關(guān)系,得到被測(cè)樣品的表面形貌。這種方法在測(cè)量時(shí)對(duì)背景光強(qiáng)不敏感,測(cè)量分辨率高;但無(wú)法確定干涉條紋的零級(jí)位置和相位差的周期數(shù),存在相位模糊問(wèn)題;若被測(cè)樣品表面的相鄰高度超過(guò)1/4波長(zhǎng)則不能測(cè)準(zhǔn),因此只能應(yīng)用于對(duì)表面連續(xù)或光滑的結(jié)構(gòu)的測(cè)試。

      白光掃描干涉法由單色光相移技術(shù)發(fā)展而來(lái),由于使用白光作為光源,在干涉時(shí)有一個(gè)確切的零點(diǎn)位置,其相干長(zhǎng)度短,干涉條紋只出現(xiàn)在很小的范圍內(nèi);當(dāng)光程差為零時(shí),干涉信號(hào)出現(xiàn)最大值,該點(diǎn)就代表對(duì)應(yīng)點(diǎn)的高度信息,通過(guò)Z向掃描能夠還原被測(cè)樣品的整體形貌。


      光譜分光型白光干涉

      由上述方法發(fā)展而來(lái)的光譜分光型白光干涉技術(shù),則是基于頻域干涉的理論,利用光譜儀將傳統(tǒng)方法對(duì)條紋的測(cè)量轉(zhuǎn)變成為對(duì)不同波長(zhǎng)光譜的測(cè)量。包含有被測(cè)表面信息的干涉信號(hào),由含有色散元件和陣列探測(cè)器的光譜儀接收,通過(guò)分析該頻域干涉信號(hào)來(lái)實(shí)現(xiàn)信息獲取。相比于單色光干涉技術(shù),光譜分光型白光干涉技術(shù)具有更大的測(cè)量范圍,同時(shí)與白光掃描干涉術(shù)相比,它在測(cè)量時(shí)不需要大量的Z向掃描過(guò)程,極大提高了測(cè)量效率。利用光譜分光型白光干涉技術(shù)可以測(cè)量絕對(duì)距離、位移、微結(jié)構(gòu)表面形貌、薄膜厚度等。在測(cè)量微結(jié)構(gòu)三維形貌時(shí),光譜分光型白光干涉技術(shù),比于其他方法操作更簡(jiǎn)單,測(cè)量精度更高。

      在微納測(cè)量領(lǐng)域,為了提高光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的水平分辨率,通常采用顯微物鏡放大的方法。在光譜分光型白光干涉測(cè)量系統(tǒng)中可以采用幾種顯微結(jié)構(gòu),如Michelson型、Mirau型和Linnik型,圖2顯示了這三種顯微干涉結(jié)構(gòu)的構(gòu)成原理。

圖2:三種顯微干涉結(jié)構(gòu)的構(gòu)成原理。

      高精度儀器設(shè)備需求不斷推動(dòng)著微納米技術(shù)向前發(fā)展,因此高精度的微納檢測(cè)技術(shù)也成為了必然需求。微納結(jié)構(gòu)測(cè)量的對(duì)象有表面形貌、電子特性、材料特性、力學(xué)特性等,其中表面形貌3D測(cè)量最為基礎(chǔ)和重要,它包括輪廓測(cè)量(如長(zhǎng)、寬、高等)和表面粗糙度等參數(shù)的測(cè)量。對(duì)于尺寸處于微納米量級(jí)的微納結(jié)構(gòu)器件而言,其靜電力、黏附力和結(jié)構(gòu)應(yīng)力等因素對(duì)其本身的影響,會(huì)隨著其表面積和體積之比的增大而增加,使器件的功能和質(zhì)量發(fā)生變化,從而影響器件的使用。因此,對(duì)微納結(jié)構(gòu)表面形貌的檢測(cè)非常必要。

      光譜分光型白光干涉技術(shù),用于測(cè)量微納米結(jié)構(gòu)三維形貌的研究及其進(jìn)一步產(chǎn)業(yè)化,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白。光譜分光型白光干涉儀(見圖3)具備高精度、高幀率、算法兼容性強(qiáng)、環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)、穩(wěn)定性強(qiáng)、操作簡(jiǎn)便、性價(jià)比高等優(yōu)點(diǎn),其在新型成像/檢測(cè)系統(tǒng)中的應(yīng)用及產(chǎn)業(yè)化,將打破國(guó)外壟斷。

圖3:光譜分光型白光干涉儀整機(jī)系統(tǒng)原理圖。

      光源是超輻射發(fā)光二極管(SLD),從光源發(fā)出的光進(jìn)入光纖耦合器,從耦合器輸出的光經(jīng)消色差準(zhǔn)直器準(zhǔn)直成平行光,使用分光棱鏡將準(zhǔn)直光分為參考光和樣品光。參考光經(jīng)透鏡3聚焦于反射鏡,樣品光經(jīng)XY掃描振鏡和透鏡4,聚焦于樣品。經(jīng)反射的參考光和樣品光由光纖耦合器的另一端輸出,進(jìn)入光譜儀中。光譜儀由透鏡1、光柵、透鏡2以及相機(jī)組成。輸出的光經(jīng)透鏡1準(zhǔn)直為平行光,照射到光柵上;光柵衍射分光,經(jīng)透鏡2匯聚于線陣相機(jī);線陣相機(jī)記錄參考光和樣品光的干涉光譜,傳給電腦進(jìn)行處理。該系統(tǒng)使用振鏡代替昂貴的高精密位移臺(tái)進(jìn)行二維掃描,可用于位移、振動(dòng)及厚度測(cè)量(點(diǎn)測(cè)量);線輪廓測(cè)量(線測(cè)量);表面輪廓成像(面成像)。

      中科行智最新研發(fā)的白光干涉儀,用于對(duì)各種精密器件表面進(jìn)行納米級(jí)測(cè)量,專業(yè)用于超高精度、高反光及透明材質(zhì)的尺寸測(cè)量。該白光干涉儀采用非接觸式測(cè)量方式,避免物件受損,可進(jìn)行精密零部件重點(diǎn)部位的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸測(cè)量。目前,在3D測(cè)量領(lǐng)域,白光干涉儀是精度最高的測(cè)量?jī)x器之一。

      中科行智重點(diǎn)開發(fā)的3D飛點(diǎn)分光干涉儀,重復(fù)精度達(dá)30nm,掃描速度70kHz,掃描范圍廣,最大直徑可達(dá)40mm;適應(yīng)性強(qiáng),可適用于測(cè)量最強(qiáng)反射、弱反射及透明物體等;穩(wěn)定性強(qiáng),分光模塊與光學(xué)振鏡模塊化設(shè)計(jì),加入光學(xué)振鏡掃描,可替代昂貴的高精密位移臺(tái)。主要特點(diǎn)如下:

      ·大視野:采用高精度光學(xué)振鏡掃描方案,實(shí)現(xiàn)水平方向大視野掃描,避免使用昂貴的高精度水平位移臺(tái);

      ·大景深:高分辨率光譜儀進(jìn)行信號(hào)采集,經(jīng)分光元件將白光分光,具備mm級(jí)測(cè)量深度特性,無(wú)需深度方向掃描裝置;

      ·高精度:大測(cè)量深度高分辨率相敏譜域干涉調(diào)解算法,重復(fù)精度30nm;

      ·高速度:采用FPGA硬件加速設(shè)計(jì),幀率70kHz;

      ·靈活性:信號(hào)采集端和接收端分離式設(shè)計(jì),采集端安裝更靈活;

      ·用戶設(shè)置自定義掃描區(qū)域、掃描間隔,也可重點(diǎn)獲取感興趣區(qū)域;

      ·適用性:適用于透明、弱反光、高反光、狹縫等材料類型的表面形貌以及厚度檢測(cè)(見圖4、圖5)。

圖4:深孔/狹縫測(cè)量示意圖。                             圖5:行業(yè)應(yīng)用案例圖。

      目前白光干涉儀相關(guān)技術(shù)處于國(guó)際領(lǐng)先,蘇州中科行智智能科技有限公司已發(fā)布的3D飛點(diǎn)分光干涉儀為國(guó)內(nèi)首家,可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片、微機(jī)電系統(tǒng)、精密加工表面、材料研究等領(lǐng)域,為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)及高精密行業(yè)賦能,高質(zhì)量解決環(huán)節(jié)價(jià)值,可趨于替代國(guó)外高精密傳感器,賦能國(guó)內(nèi)高精密、高價(jià)值智能制造!


責(zé)任編輯:prsky
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